芯源微推出浸沒式高產能涂膠顯影機新品 采用獨創的對稱分布高產能架構
原標題：芯源微推出浸沒式高產能涂膠顯影機新品，已通過客戶端驗證
12 月 17 日消息：芯源微是國內涂膠顯影細分領域龍頭。該公司今日宣布，在公司成立二十周年之際召開新品發布會，推出最新一代的前道浸沒式高產能涂膠顯影機 FT(III)300.
據介紹，該款機型采用獨創的對稱分布高產能架構，滿配 36 Spin 處理單元，搭載自主研發的雙向同步取放機械手，可大幅提升整機的機械傳送產能和傳送精度，能夠匹配全球主流光刻機聯機生產，可在復雜工藝下實現 300 片以上產能。
該款機型通過選配可全面覆蓋 I-line、KrF、ArF dry、ArF 浸沒式等多種光刻技術，也適用包括 SOC、SOH、SOD 等在內的其他旋涂類應用。
為應對未來光刻機產能的不斷提升，該機型還可擴充至更多處理單元，同時實現在低占地面積下兼顧機臺易維護性，有效提升機臺維護效率。
IT之家了解到，該機型還可擴充至更多處理單元，由目前的 36 Spin 擴展為 48 Spin，產能提升到每小時 360 片，同時實現在低占地面積下兼顧機臺易維護性，有效提升機臺維護效率。
芯源微前道設計部總監程虎表示，作為芯源微自主開發的第三代機型，浸沒式高產能涂膠顯影機具有高產能、高工藝能力、高潔凈度、高擴展性和易維護性等優勢。目前，該款機型已通過客戶端驗證，達到客戶量產要求，成功打破國外壟斷，填補國內空白。
此外，機臺還搭載了公司開發的精確溫度調制(PTM)技術，使熱盤烘烤溫度均勻性達到業界領先水平;擁有全新的 Spin 單元實時控制技術，可有效提升機臺運動控制及流體控制精度、響應性及穩定性，持續為客戶降低成本;通過仿真優化設計整機流場，確保內部微環境均勻穩定，提升整機的潔凈度等級;全系列輔助功能單元，包含 AOI、WEE 系統等，可在線式檢測晶圓工藝缺陷，減少不良品流出。
來源：IT之家
IT時代網(關注微信公眾號ITtime2000，定時推送，互動有福利驚喜)所有原創文章版權所有，未經授權，轉載必究。
創客100創投基金成立于2015年，直通硅谷，專注于TMT領域早期項目投資。LP均來自政府、互聯網IT、傳媒知名企業和個人。創客100創投基金對IT、通信、互聯網、IP等有著自己獨特眼光和豐富的資源。決策快、投資快是創客100基金最顯著的特點。
熱門文章
精彩評論
小何華為現在牛的不只是設備商了，，華為的手機現在也是全球銷量不錯，國內也算是老大了，之前用小米，，現在都改華為了。。產品確實不錯。- 小何三星手機在中國還有市場嗎？看看現在滿大街的vivo和oppo ，，華為，，小米線下店，，就是知道三星的市場基本沒有了。。
- 小何滴滴打車現在也沒有之前那么火了，，補貼也少了。。
- 小何今日頭條要把騰訊的地方各頻道給霸占了。。